삼성전자가 올해 전체 시설투자에 약 46조2000억원을 쏟아 붓는다. 이는 지난해(25조5000억원)보다 2배 가까이 늘어나는 규모다. 사업별로는 △반도체 29조5000억원 △디스플레이 14조1000억원이 각각 투입된다.

삼성전자는 31일 이 같은 내용을 골자로 한 ‘2017년 시설투자 계획’을 발표했다.

3분기 시설투자 규모는 총 10조4000억원으로 집계됐다. 반도체에 7조2000억원, 디스플레이에 2조7000억원이 투자됐다. 3분기 누계로는 32조9000억원이 집행됐다.

메모리의 경우, V낸드 수요 증가 대응을 위한 평택 1라인 증설과 D램 공정전환을 위한 투자가 진행되고 있다. 파운드리는 10나노 공정 생산라인 증설에 투자되고 있다.

디스플레이의 경우는 플렉서블 올레드(OLED) 패널 고객 수요에 대응하기 위한 생산라인 증설 투자가 진행 중이다.

삼성전자 관계자는 “4분기 투자는 상당 부분이 반도체 사업에 투자될 예정”이라며 “주로 신규부지 조성과 클린룸 공사 등 인프라 구축에 쓰일 전망”이라고 밝혔다.

한영훈 기자 han005@viva100.com