삼성전자가 중국 시안에 3차원(3D) 낸드플래시 전용 공장을 증설한다.

삼성전자는 중국 반도체 생산법인인 삼성중국반도체(SCS)의 낸드플래시 메모리 증설에 향후 3년간 총 70억 달러(약 7조8500억원)를 투자한다고 28일 공시했다. 이어 “이날 경영위원회에서 전체 자본금 23억 달러에 대한 출자를 승인했다”고 밝혔다.

이번 결정은 중장기적인 낸드 수요 증가에 대비하기 위한 작업의 일환이라는 게 삼성전자의 설명이다. 실제로 삼성전자와 함께 국내 반도체 시장의 양대산맥으로 꼽히는 SK하이닉스 역시 최근 낸드 관련 투자를 본격화하고 있다.

이에 따라 삼성전자는 중국 시안에 기존 1라인에 더해 2라인을 확보하게 된다. 시안의 1라인에서는 현재 월 10만장 규모의 3D 낸드가 생산되고 있는 것으로 알려져 있다. 업계에서는 신축되는 2라인 역시 1라인과 동일한 월 10만장 규모의 생산능력을 갖출 것으로 보고 있다. 신규 라인이 본격적인 가동에 들어갈 경우 삼성전자는 국내 평택공장과 중국 시안공장을 낸드플래시 생산의 양대 거점으로 활용할 전망이다. 평택 공장은 2021년까지 최대 월 24만장의 생산능력을 갖출 것으로 예상된다.

삼성전자의 이번 투자 결정 배경에는 중국 정부의 적극적인 유치 노력이 있었던 것으로 보인다. 삼성전자는 이번 공장 건설과 관련해 중국 정부의 자금 지원도 받을 전망이다. 당초 1라인 건설 당시부터 2라인 부지를 확보한 바 있는 삼성전자는 중국 측 지원 규모를 두고 상당 기간 줄다리기를 해온 것으로 알려졌다. 중국은 ‘반도체 굴기’ 전략을 앞세우며 한국 반도체 업계를 위협하는 최대 적수로 부상했으나, 여전히 세계 반도체 수요의 절반 이상을 차지하는 최대 시장이다.

삼성전자 관계자는 “신축 공장은 올해 내로 착공할 예정이며 현재 2019년 가동을 목표로 하고 있다”며 “이번에 결정된 사항은 투자 금액과 관련된 부분뿐”이라고 말했다.

김지희 기자 jen@viva100.com