[단독] ASML, 신제품 EUV 장비 '출시 급제동?'…후폭풍 현실화 되나

ASML EUV 트윈스캔 NXE:3600D.(사진=ASML)

네덜란드 장비 기업 ASML이 신제품 EUV(극자외선) 노광장비 출시에 급제동이 걸렸다. 장비에 사용되는 일부 부품의 수급 문제가 생산에 영향을 줬다는 후문이다. 이 장비는 올해 출시가 예정돼있던 만큼 ASML의 EUV 장비 출시 로드맵 전반이 틀어질 공산이 커졌다는 지적이다.

13일 ASML에 정통한 관계자에 따르면 ASML이 올해 중 선보일 예정이던 EUV 장비 트윈스캔(TWINSCAN) NXE:3800E의 개발에 난제에 부딪친 것으로 확인됐다. ASML 관계자는 “ASML이 NXE:3800E에 대한 결함을 일부러 공개하지 않고 있다”며 “안정화되기 전까지 직원들에게도 따로 얘기하지 않을 것으로 보인다”고 우려했다.

이 같은 장비 지연 가능성이 사실로 드러날 경우 장비는 물론 반도체 후공정 전반에 수급 문제로 직결되는 만큼 향후 후폭풍이 만만치 않을 것으로 보인다. 시장에서는 ASML이 EUV 장비를 독점 공급하는 있다는 부분에 주목, 일시에 수요가 몰려 부품 공급량을 초과하는 수급 밸런스상 문제로 추정하고 있다.

반도체 장비 업계 관계자는 “반도체 장비 출시가 지연되는 것은 두 가지 가능성을 고려해볼 수 있다”며 “그 중 하나가 부품들이 준비가 되질 않아 늦어지는 케이스다. ASML 같은 경우는 워낙 장비 발주가 많은 기업이다 보니 부품 수급이 좀 늦어질 수 있을 것 같다”고 해석했다. 그러면서 “다른 하나는 조립을 해도 기능이 나오지 않아 출시할 수 없는 경우”라고 지적했다.

실제로 ASML은 직원들을 대상으로 진행 예정이던 EUV 장비 트레이닝도 취소했다. 당초 ASML은 EUV 장비를 다루기 위한 트레이닝을 8월 진행할 예정이었지만, 장비 출시 지연에 따라 모든 일정이 순연된 것으로 해석되고 있다.

신제품은 D램과 시스템 반도체 선단공정에 사용되는 NA(뉴메리컬 어퍼처, 렌즈의 크기) EUV 장비다. 업계에서는 신제품의 가격도 이전 모델과 비슷할 것으로 추정 중이다. 이전 모델인 NXE:3600의 가격은 약 1800억원이다.

지난해 ASML은 하이NA EUV장비 개발에 어려움을 겪은 것으로 알려졌다. 하이NA EUV 장비는 NXE 시리즈보다 한 등급 높은 EXE 시리즈라는 명칭으로 불린다. EXE 시리즈는 2nm(나노미터, 10억분의 1m)에 사용되는 장비로 삼성전자, TSMC 등 기업이 출시 시기에 민감하게 반응하는 장비다.

ASML이 EUV 장비 개발에 어려움을 겪으면 기업의 칩 수급에도 차질이 있을 것으로 보여진다. 현재 삼성전자, SK하이닉스 등 우리 메모리 업계는 DDR4, DDR5 등 D램 공정에 EUV 노광 기술을 적용하고 있다. 이를 위한 ASML의 EUV 장비가 필수적이다. EUV 장비가 파운드리(반도체 위탁생산) 7nm 미만 공정에도 사용되는 삼성전자 DS(반도체)부문의 경우 그 피해가 더 클 것으로 보인다.

다만 현재 사용 중인 장비만으로도 생산에 어려움이 없는 만큼 신제품 개발 지연이 국내 기업에 미치는 영향이 적을 것이라는 의견도 나온다.

김양팽 산업연구원 전문연구원은 “애초에 기존 ASML의 제품도 공급이 제대로 되지 않는 걸로 알고 있다”며 “(국내 기업들이) 신제품을 통해 제품을 생산하려는 계획이 있겠지만 그 범위가 넓지 않을 것으로 예상된다. 이런 부분을 고려하면 당장 신제품 개발 지연이 우리 기업에 영향을 미치지는 않을 것 같다”고 분석했다.

전화평 기자 peace201@viva100.com