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| 저스템 사옥 전경.(사진=저스템) |
반도체 장비 기업 저스템이 미국 아이다호주의 보이시(Boise)에 있는 마이크론 기술혁신센터에서 지난 6월말 N2 LPM(Lord Port Module) 장비평가를 성공적으로 마쳤다고 8일 밝혔다.
저스템이 이번에 평가받은 N2 LPM은 반도체 공정 중 웨이퍼를 보관하고 이동하는 풉(FOUP)의 내부 습도를 제어하고 불순물을 제거해 수율을 향상시키는 장비다.
현재 저스템은 글로벌 습도제어 장비 80% 이상을 점유하고 있는 것으로 집계된다.
북미지역에서 유일하게 D램을 생산하는 마이크론은 아이다호주 보이시에 본사와 기술혁신센터를 두고 2025년 공장가동을 목표로 축구장 10개규모에 해당하는 생산라인을 건설 중에 있다. 완공 후에는 첨단 D램과 HBM(고대역폭메모리)을 생산할 것으로 예상되며 현재 공정에 적용할 각종 장비를 테스트중인 것으로 알려졌다.
저스템은 이미 2019년부터 마이크론의 글로벌 생산라인인 일본, 대만, 싱가폴 등 에 N2 LPM을 공급하며 기술력과 신뢰성을 입증했다. 현재 일본과 대만 HBM라인에도 이 장비가 적용되고 있어 이번 평가는 향후 보이시의 새로운 라인에 적용을 위한 최종 검토차원으로 판단된다고 회사는 밝혔다.
저스템 CTO 김용진 사장은 “2025년 이후에는 보이시공장이 주요 생산라인이 될 것이므로 현지에서 테스트를 성공적으로 마친 만큼, 향후 지속적으로 물량을 공급할 수 있을 것으로 보인다”며 “HBM 제조경쟁이 치열한 상황에서 후공정 못지 않게 수율제고를 위한 필수장비로서 N2 LPM의 역할이 더해질 것으로 본다”고 말했다.
전화평 기자 peace201@viva100.com
